WLCSP的封裝方式,不僅明顯地縮小內存模塊尺寸,而符合行動裝置對于機體空間的高密度需求;另一方面在效能的表現上,更提升了數據傳輸的速度與穩(wěn)定性。
WLCSP的特性優(yōu)點:
原芯片尺寸最小封裝方式:
WLCSP晶圓級芯片封裝方式的最大特點便是有效地縮減封裝體積,故可搭配于行動裝置上而符合可攜式產品輕薄短小的特性需求。
數據傳輸路徑短、穩(wěn)定性高:
采用WLCSP封裝時,由于電路布線的線路短且厚(標示A至B的黃線),故可有效增加數據傳輸的頻寛減少電流耗損,也提升數據傳輸的穩(wěn)定性。
散熱特性佳:
由于WLCSP少了傳統(tǒng)密封的塑料或陶瓷包裝,故IC芯片運算時的熱能便能有效地發(fā)散,而不致增加主機體的溫度,而此特點對于行動裝置的散熱問題助益極大。
WLCSP可以被分成兩種結構類型:直接BOP(bump On pad)和重新布線(RDL)。
BOP即錫球直接長在die的Al pad上,而有的時候,如果出現引出錫球的pad靠的較近,不方便出球,則用重新布線(RDL)將solder ball引到旁邊。
最早的WLCSP是Fan-In,bump全部長在die上,而die和pad的連接主要就是靠RDL的metal line,封裝后的IC幾乎和die面積接近。Fan-out,bump可以長到die外面,封裝后IC也較die面積大(1.2倍)。
Fan-in: 如下流程為Fan-in的RDL制作過程。
Fan-Out: 先將die從晶圓上切割下來,倒置粘在載板上(Carrier)。此時載板和die粘合起來形成了一個新的wafer,叫做重組晶圓(Reconstituted Wafer)。在重組晶圓中,再曝光長RDL。
Fan-in和Fan-out 對比如下,從流程上看,Fan-out除了重組晶圓外,其他步驟與Fan-in RDL基本一致。
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一、WLP晶圓級封裝VS傳統(tǒng)封裝
在傳統(tǒng)晶圓封裝中,是將成品晶圓切割成單個芯片,然后再進行黏合封裝。不同于傳統(tǒng)封裝工藝,晶圓級封裝是在芯片還在晶圓上的時候就對芯片進行封裝,保護層可以黏接在晶圓的頂部或底部,然后連接電路,再將晶圓切成單個芯片。
相比于傳統(tǒng)封裝,晶圓級封裝具有以下優(yōu)點:
1、封裝尺寸小
由于沒有引線、鍵合和塑膠工藝,封裝無需向芯片外擴展,使得WLP的封裝尺寸幾乎等于芯片尺寸。
2、高傳輸速度
與傳統(tǒng)金屬引線產品相比,WLP一般有較短的連接線路,在高效能要求如高頻下,會有較好的表現。
3、高密度連接
WLP可運用數組式連接,芯片和電路板之間連接不限制于芯片四周,提高單位面積的連接密度。
4、生產周期短
WLP從芯片制造到、封裝到成品的整個過程中,中間環(huán)節(jié)大大減少,生產效率高,周期縮短很多。
5、工藝成本低
WLP是在硅片層面上完成封裝測試的,以批量化的生產方式達到成本最小化的目標。WLP的成本取決于每個硅片上合格芯片的數量,芯片設計尺寸減小和硅片尺寸增大的發(fā)展趨勢使得單個器件封裝的成本相應地減少。WLP可充分利用晶圓制造設備,生產設施費用低。
二、晶圓級封裝的工藝流程
晶圓級封裝工藝流程如圖所示:
1、涂覆第一層聚合物薄膜,以加強芯片的鈍化層,起到應力緩沖的作用。聚合物種類有光敏聚酰亞胺(PI)、苯并環(huán)丁烯(BCB)、聚苯并惡唑(PBO)。
2、重布線層(RDL)是對芯片的鋁/銅焊區(qū)位置重新布局,使新焊區(qū)滿足對焊料球最小間距的要求,并使新焊區(qū)按照陣列排布。光刻膠作為選擇性電鍍的模板以規(guī)劃RDL的線路圖形,最后濕法蝕刻去除光刻膠和濺射層。
3、涂覆第二層聚合物薄膜,是圓片表面平坦化并保護RDL層。在第二層聚合物薄膜光刻出新焊區(qū)位置。
4、凸點下金屬層(UBM)采用和RDL一樣的工藝流程制作。
5、植球。焊膏和焊料球通過掩膜板進行準確定位,將焊料球放置于UBM上,放入回流爐中,焊料經回流融化與UBM形成良好的浸潤結合,達到良好的焊接效果。
三、晶圓級封裝的發(fā)展趨勢
隨著電子產品不斷升級換代,智能手機、5G、AI等新興市場對封裝技術提出了更高要求,使得封裝技術朝著高度集成、三維、超細節(jié)距互連等方向發(fā)展。晶圓級封裝技術可以減小芯片尺寸、布線長度、焊球間距等,因此可以提高集成電路的集成度、處理器的速度等,降低功耗,提高可靠性,順應了電子產品日益輕薄短小、低成本的發(fā)展要需求。
晶圓級封裝技術要不斷降低成本,提高可靠性水平,擴大在大型IC方面的應用:
1、通過減少WLP的層數降低工藝成本,縮短工藝時間,主要是針對I/O少、芯片尺寸小的產品。
2、通過新材料應用提高WLP的性能和可靠度。主要針對I/O多、芯片尺寸大的產品。