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簡要描述:半導體烘箱 參數(shù):1.高性能無氧烘箱能夠在氧氣濃度低至500 ppm 的氣氛中,加熱高達 500℃ 的溫度,并對材料進行熱處理。非常適合各類退火,退應力,和各類抗氧化熱處理2.含氧控制:500PPM以內(nèi)3.溫度范圍:Room temp. +20~500℃4.控溫精度:±1.0℃5.溫度均勻性:±2.5%℃6.升溫時間:RT~ 500℃≤60min7.容量:可定制
產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
1 產(chǎn)品概述:
半導體烘箱是一種專門用于半導體芯片、電子元器件等材料進行熱處理的設備。它通過高溫加熱的方式,對半導體芯片進行烘干、固化、烘焙等處理過程,以提高半導體芯片的性能穩(wěn)定性和可靠性。半導體烘箱采用先進的溫度控制系統(tǒng)和加熱技術,能夠精確控制加熱過程中的溫度波動范圍,確保半導體芯片在熱處理過程中不受損害。
2 設備用途:
半導體烘箱的主要用途包括:
半導體芯片制造:在半導體芯片制造過程中,烘箱用于烘干、固化和烘焙芯片,以提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。
電子元器件處理:對于電子元器件,如LED封裝、印刷電路板等,半導體烘箱可用于去除水分、氣體,保證元器件的質(zhì)量穩(wěn)定性和壽命。
熱處理實驗:在科研和實驗領域,半導體烘箱也常用于烘烤、老化實驗,檢驗電子元氣件、儀器儀表等材料在溫度環(huán)境下的性能指標。
3 設備特點
半導體烘箱的特點主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
高精度溫度控制:半導體烘箱具備高精度的溫度控制系統(tǒng),能夠精確控制加熱過程中的溫度波動范圍,通常誤差小于1℃,確保熱處理過程的穩(wěn)定性和可靠性。
先進加熱技術:采用不銹鋼加熱管等高效加熱元件,加熱速度快,熱效率高,且使用壽命長。
多種送風方式:部分半導體烘箱采用的水平+垂直送風相結合的強壓鼓風循環(huán)系統(tǒng),使溫度更加均勻,提高熱處理效果。
4 技術參數(shù)和特點:
1. 含氧控制:500PPM以內(nèi)
2. 溫度范圍:Room temp. +20~500℃
3. 控溫精度:±1.0℃
4. 溫度均勻性:±2.5%℃
5. 升溫時間:RT~ 500℃≤60min
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