一、產(chǎn)品概述：

光學(xué)輪廓儀是一種高精度的測量儀器，利用光學(xué)技術(shù)對材料表面的輪廓和形貌進(jìn)行非接觸式測量。它通過分析反射光和干涉圖樣，能夠獲取樣品表面的微觀特征，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子制造和精密工程等領(lǐng)域。

二、設(shè)備用途/原理：

·設(shè)備用途

光學(xué)輪廓儀主要用于測量材料表面的粗糙度、形貌和高度變化。常見應(yīng)用包括半導(dǎo)體器件的表面特性分析、光學(xué)元件的質(zhì)量檢測、涂層厚度測量以及微結(jié)構(gòu)的表征。這些數(shù)據(jù)對于材料的性能評估、質(zhì)量控制和研發(fā)過程至關(guān)重要。

·工作原理

光學(xué)輪廓儀的工作原理基于光的干涉和反射現(xiàn)象。儀器發(fā)射光束照射到樣品表面，反射回來的光與參考光束進(jìn)行干涉。通過分析干涉圖樣的變化，儀器能夠精確測量樣品表面的高度和形貌特征。由于采用非接觸式測量，光學(xué)輪廓儀能夠避免對樣品的損傷，適合用于脆弱或敏感材料的表征。最終生成的輪廓圖可以提供詳細(xì)的表面特征信息，幫助研究人員進(jìn)行深入分析。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

1. 測量模式：PSl, USl, VSl, 選配的 Film

2. 大掃描量程：≤10 mm

3. 橫向分辨率：

4. 0.38 um minimum (Sparrow criterion)

5. 0.13 um (with AcuityXR)

6. 垂直分辨率：<0.01 nm

7. 臺階高度重復(fù)性：<0.75%   <0.125% 1 sigma repeatability

8. 大掃描速度：122 um/sec (with laser reference)

9. 樣品反射率范圍：0.05% to 100%

10 .樣品尺寸：350 mm * 304 mm x 304 mm (H x D * W) ；249 mm H 自動樣品臺

11. 大樣品重量：45 kg (77 kg without standard stage)

12. XY 品臺：300 mm 自動樣品臺

13. Z 軸聚焦：249(350 mm 不帶自動臺)

14. 光源：利雙LED光源

15. 物鏡：

16. Parfocal: 2.5X, 5x, 10X, 20X, 50X,100X, 115X

17. LWD: 1X, 2X, 5X，10X

18. TTM: 2x, 5X, 10x, 20X: Bright Field: 10X

19. Single-objective adapter; Optional motorized five-position turret

20. 放大器：0.55X，0.75X，1X，1.5X, 2X auto-sensing modules