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磁控濺射系統(tǒng)是一種常用于薄膜沉積和表面涂層的工藝技術(shù)。它利用磁場控制金屬或化合物材料的濺射，將其沉積在基板上，形成均勻、致密且具有優(yōu)良性能的薄膜。磁控濺射系統(tǒng)的核心部件是濺射源，通常由靶材、磁控裝置和加熱器組成。靶材是目標(biāo)材料，可以是金屬、合金或化合物，根據(jù)應(yīng)用需求選擇。磁控裝置包括磁鐵和極板，在濺射過程中產(chǎn)生并維持均勻的磁場，以控制離子束的運(yùn)動(dòng)軌跡和能量分布。加熱器用于提高靶材溫度，使其達(dá)到濺射所需的合適條件。在磁控濺射過程中，通過加熱器對靶材加熱，使其表面發(fā)射出高能量的粒...

高精密單面光刻機(jī)是一種先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備，用于在硅片或其他基板上制作微小而精確的圖案。該設(shè)備結(jié)合了光學(xué)、機(jī)械和控制系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)高分辨率、高精度的圖案轉(zhuǎn)移過程。主要組成部分包括曝光系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)、底片/掩模系統(tǒng)和步進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。曝光系統(tǒng)是光刻機(jī)的核心部件，它通過照射光源將圖案投影到基板上。常見的曝光光源包括紫外線（UV）光源和電子束（EB）光源，其中紫外線光刻機(jī)在半導(dǎo)體制造中應(yīng)用廣泛。對準(zhǔn)系統(tǒng)用于確保底片和基板之間的精確對位，以保證圖案的準(zhǔn)確傳輸。底片/掩模系統(tǒng)則負(fù)責(zé)支持和固定...