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  • Fiji等離子增強原子層沉積PEALD

    我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng),采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置,可適應各種沉積模式。Fiji G2 是下一代 ALD 系統(tǒng),能夠執(zhí)行熱成像和等離子體增強沉積。

    更新時間:2025-06-06
    型號:Fiji
    廠商性質:經銷商
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  • NANO 36™熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,提供了實惠的價格點,同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

    更新時間:2025-06-06
    型號:NANO 36™
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:541
  • Savannah原子層沉積ALD

    用于高級研究的先進能力 Veeco 是原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng)供應商,為研究和工業(yè)提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統(tǒng),這些系統(tǒng)易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

    更新時間:2025-06-06
    型號:Savannah
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:540
  • Phoenix原子層沉積ALD

    Phoenix®系統(tǒng)經過精心設計,可在從中試生產到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現可重復、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的前驅體生產線,可根據您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設計使Phoenix®成為具有批量生產ALD要求的人們的實用選擇。

    更新時間:2025-06-06
    型號:Phoenix
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:487
  • GEN2000分子束外延MBE

    GEN2000® MBE 系統(tǒng)提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產以及需要以低擁有成本生產 6 英寸的新興應用的理想選擇。

    更新時間:2025-06-06
    型號:GEN2000
    廠商性質:經銷商
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  • GEN200分子束外延MBE

    Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產 MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等設備的生長中提供吞吐量、長時間的加工周期和出色的晶圓質量。

    更新時間:2025-06-06
    型號:GEN200
    廠商性質:經銷商
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