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高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)優(yōu)質(zhì)的軟件控制系統(tǒng);4英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性:≤±2.5%,8英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性:≤±3.5%,測定標(biāo)準(zhǔn)以Ti靶材,濺射200——500nm厚薄膜,邊緣去5mm,隨機(jī)5點(diǎn)取樣測定為準(zhǔn)。