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當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  5 刻蝕設(shè)備  >  customized-14深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH

深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH

簡要描述:提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)。

  • 產(chǎn)品型號:customized-14
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量: 1292

詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)百科:深硅刻蝕系統(tǒng)的原理既包括利用等離子體中的活性粒子進行物理和化學(xué)作用的等離子體刻蝕技術(shù),也包括通過化學(xué)反應(yīng)去除材料的濕法刻蝕技術(shù)。


2. 設(shè)備特點

光滑側(cè)壁工藝

高刻蝕速率腔刻蝕;

高深寬比工藝;

錐形通孔刻蝕;

機械或靜電壓盤,加熱內(nèi)襯;

延長了兩次清洗間的平均時間間隔(MTBC)環(huán)形激光陀螺反射鏡;

X射線光學(xué)系統(tǒng);

紅外(IR)傳感器;

II-VI族材料,通信濾波器。

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