1.產(chǎn)品概述：

掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿(mǎn)足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)，它是應(yīng)對(duì) 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。

2.配置：

MaskTrack Pro 烘烤和顯影系統(tǒng)是 SUSS MicroTecs 下一代光刻技術(shù)掩模產(chǎn)品線(xiàn)的一部分。為亞32 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)而設(shè)計(jì)，平臺(tái)能夠在制造掩模時(shí)完成高度復(fù)雜的工藝步驟。

Mask Track Pro 提供一個(gè)特殊的無(wú)硫自動(dòng)光掩模清洗配置選項(xiàng)。背面清潔系統(tǒng)提供工廠(chǎng)使用的光掩模特殊清潔解決方案，其中不僅定期清除背面污垢，還必須除去正面的潮濕斑點(diǎn)。此系統(tǒng)還適用于清潔小批量的光掩模坯件以及用于研究。

MaskTrack Pro 提供的物理和化學(xué)清洗法組合。能夠有效地清除顆粒和有機(jī)及無(wú)機(jī)污物。此外，智能清洗過(guò)程和各種表面處理方法確保技術(shù)節(jié)點(diǎn)掩模的完整性低于 1x nm Half-Pitch。MaskTrack Pro 向后兼容至 90 nm Half-Pitch。創(chuàng)新的平臺(tái)方案提供一個(gè)群集解決方案連同 MaskTrack Pro InSync 系統(tǒng)、掩模背面粒子探測(cè)以及 EUV 內(nèi)光罩庫(kù)。因此，平臺(tái)保證了掩模全面管理方法，這對(duì) EUVL 基礎(chǔ)設(shè)施十分重要。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群，并提供一個(gè)全面的方法。

縮短貨期時(shí)間

延長(zhǎng)掩模的壽命

提高掃描儀的運(yùn)行時(shí)間

降低運(yùn)行成本