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當前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  MA200 Gen3掩模對準光刻機

掩模對準光刻機

簡要描述：MA200 3代掩模對準光刻機專為大批量生產(chǎn)而設計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工。本系統(tǒng)集全場光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應用的優(yōu)秀系統(tǒng)，例如生產(chǎn)厚膠工藝MEMS、有凹凸圖形的 3D 結(jié)構(gòu)以及先進封裝應用，如3D封裝、扇出封裝、凸點封裝及化合物半導體和圖像傳感器。

  • 產(chǎn)品型號：MA200 Gen3
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2024-08-27
  • 訪  問  量： 210

詳細介紹

MA200 3代提供適應眾多生產(chǎn)過程的智能化解決方案。多樣化的對準方案、靈活可調(diào)的鏡頭系統(tǒng)和特殊附加選項使本系統(tǒng)成為處理各種不同工藝的全能設備。

高度自動化且切實節(jié)省寶貴的處理時間。這也體現(xiàn)在細節(jié)方面，例如選擇自動更換濾光片，以便維持低運營成本。

MA200 3 代在設計方面著重凸出用戶友好性。如可調(diào)節(jié)高度的顯示器、符合人體工程學的I / O接口、連續(xù)運行期間更換晶圓盒和直接觀看曝光模塊等特性大大簡化了設備操作，即使是在高負荷工作時。

憑借其廣泛的附加選項，第 3 代 MA200 很容易就能達到特種光刻工藝的要求。


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