當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 2 PVD > Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備
簡要描述:適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
產(chǎn)品分類
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1.產(chǎn)品概述:
Lumina® 系統(tǒng)基于 Veeco 業(yè)界的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) TurboDisc® 技術(shù),在長時(shí)間的生產(chǎn)過程中,其具有均勻性和低缺陷率,帶來出色的產(chǎn)量和靈活性。此外,Veeco 的有技術(shù)也提供均勻的熱控制,可實(shí)現(xiàn)的厚度和組合均勻性。該系統(tǒng)提供無縫晶片尺寸過渡,能夠在直徑達(dá) 8 英寸的晶片上沉積高質(zhì)量 As/P 外延層。Lumina 系統(tǒng)允許用戶自定義系統(tǒng)以實(shí)現(xiàn)大價(jià)值。
2.產(chǎn)品應(yīng)用:
VCSEL
3D 傳感
LiDAR
高速數(shù)據(jù)通信
邊緣發(fā)射激光器
先進(jìn)的光學(xué)通信
硅光電
迷你和微型 LED
4K 和 8K 電視顯示屏
智能手機(jī)
可穿戴設(shè)備
AR/VR(增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/虛擬現(xiàn)實(shí))
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