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  • Nikon S206D掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S206D掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.12µm 主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.12µm N.A.0.82 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 20nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon S206D
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:328
  • Nikon S205C掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S205C掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.15µm 主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.15µm N.A.0.75 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA:35nm FIA:40nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon S205C
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:469
  • Nikon S204B掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S204B掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.18µm 主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.18µm N.A.0.68 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA:40nm FIA:45nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon S204B
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:647
  • Nikon S203B掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S203B掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.2µm 主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.2µm N.A.0.68 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA:45nm FIA:50nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon S203B
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:312
  • Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī)

    1、Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.25µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.25µm N.A.0.6 曝光光源248nm 倍率5:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)22mm*22mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA:55nm FIA:65nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon EX14C
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:290
  • Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī)

    1、Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.3µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線(xiàn) 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.3µm N.A.0.55 曝光光源248nm 倍率5:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)22mm*22mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA:55nm FIA:65nm

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號(hào):Nikon EX12B
    廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:243
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