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EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機。

EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進(jìn)行納米蝕刻和沉積，制品特微。

可靠、快速和可重復(fù)的手動和自動檢測 基于VoidInspect的自動氣泡計算 易于使用的動態(tài)增強過濾功能，例如eHDR 使用micro3Dslice和FF CT軟件的最佳層析成像技術(shù) 針對敏感器件的劑量降低套件和低劑量檢測模式 市面上的超低占地面積

Pishow® D 系列深刻蝕設(shè)備，是針對8英寸~6英寸產(chǎn)線或科研深硅刻蝕工藝的專用設(shè)備，擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。 提供Si Bosch工藝的解決方案。 該設(shè)備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率，可幫助不同客戶實現(xiàn)產(chǎn)能升級。

Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設(shè)備為可用于8英寸的IC產(chǎn)線鋁金屬工藝的量產(chǎn)型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性（片內(nèi)8%，片間5%）和顆粒控制。在4微米厚鋁刻蝕工藝中，可以提供8000片/月的產(chǎn)能。 該設(shè)備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率，可為客戶產(chǎn)能升級提供幫助。

Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設(shè)備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備 設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）以及傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成 適用于0.11微米及其它技術(shù)代的多晶硅柵（poly gate）、側(cè)墻（spacer）、淺溝槽隔離（STI）工藝