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簡要描述:VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃,升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱,工藝腔室潔凈。
詳細介紹
1. 產品概述
VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備。
2. 設備用途/原理
VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,高溫度 2000℃,升溫速率可達 100℃/min。石墨電阻加熱,工藝腔室潔凈。自動裝片,Cassette to Cassette。SEMI S2/S6 認證。
3. 設備特點
晶圓尺寸 4/6 英寸兼容,適用材料 碳化硅、氮化鋁,適用工藝 注入后激活、Ar 退火、Ar/H2 退火、溝槽平滑,適用域 科研、化合物半導體。百科:退火爐的原理?主要涉及通過控制加熱和冷卻過程中的溫度和時間,以改變半導體材料的性質或結構,從而實現(xiàn)對材料的精確控制和優(yōu)化處理。這種設備通常被稱為RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火爐。RTP退火爐的關鍵特點包括快速升溫、保持溫度、冷卻階段以及氣體控制。
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