1. 產(chǎn)品概述

ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機(jī)，先進(jìn)的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。

2. 設(shè)備用途/原理

先進(jìn)的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。多片式托盤，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能，同時(shí)確保優(yōu)異的刻蝕均勻性。全路徑全真空，全自動(dòng)晶圓傳輸，顆?？刂苾?yōu)。工藝套件設(shè)計(jì)，更長(zhǎng)的耗材壽命。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸4、6 英寸及特殊尺寸。適用材料  藍(lán)寶石、氮化鎵、氧化硅 / 氧化鈦、砷化鎵、磷化鎵、鋁鎵銦磷、氧化硅、氮化硅、鈦鎢、有機(jī)物。適用工藝 PSS 刻蝕、電刻蝕、深槽隔離刻蝕、介質(zhì)反射層（DBR）刻蝕、紅黃光刻蝕、鈍化層刻蝕、金屬阻擋層刻蝕。適用域化合物半導(dǎo)體。