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RIE等離子刻蝕設備

簡要描述：RIE-200C RIE等離子刻蝕設備是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，PLC控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。

  • 產(chǎn)品型號：RIE-200C
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2024-09-06
  • 訪  問  量： 232

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，PLC控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。

2. 設備用途/原理

Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵，清除有機污染物。

3. 設備特點

大氣高速傳輸系統(tǒng)，該系統(tǒng)配備了一個大氣盒室和一個大氣傳輸機器人，而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動加工，并且可以安裝在兩個盒式箱中。全自動操作，通過觸摸屏可實現(xiàn)全自動操作，通過PLC控制可實現(xiàn)過程管理和數(shù)據(jù)記錄。


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