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簡要描述：SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SILAYO PEALD 系統(tǒng)擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合，可在 330 mm 基板和 3D 基板上進行沉積。為了確保層厚具有出色的均勻性和保形性，PEALD用于沉積光學(xué)薄膜，例如，作為抗反射涂層或光學(xué)濾光片系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號：SENTECH SILAYO廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-08-12訪 問 量： 157產(chǎn)品分類
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SENTECH SILAYO 等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 系統(tǒng)設(shè)計用于在大型 3D 物體和小基材批次上進行保形和均勻光學(xué)鍍膜。SENTECH專有的平面三重螺旋天線（PTSA）為均勻的光學(xué)鍍膜提供均勻的等離子體。
SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)能夠均勻包被直徑達330 mm、垂直尺寸達100 mm的樣品。
可選的射頻偏置襯底電極允許修改層屬性（例如應(yīng)力和折射率）
SENTECH SILAYO PEALD 系統(tǒng)擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合，可在 330 mm 基板和 3D 基板上進行沉積。為了確保層厚具有出色的均勻性和保形性，PEALD用于沉積光學(xué)薄膜，例如，作為抗反射涂層或光學(xué)濾光片系統(tǒng)。SENTECH SILAYO在PEALD處理中利用了SENTECH平面三重螺旋天線（PTSA）電感耦合等離子體（ICP）源的優(yōu)點。
SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)設(shè)計用于在大型和3D形狀的基材上沉積材料，特別適用于對層性能要求高的光學(xué)鍍膜，例如厚度和成分控制的高精度，光滑的表面和尖銳的界面，應(yīng)力控制，特別是高厚度的多層堆疊，3D形狀上的高均勻性和保形性，以及降低沉積溫度以實現(xiàn)低損傷加工。
該系統(tǒng)可以選擇配備SENTECH AL實時監(jiān)測儀的專有技術(shù)，用于原位監(jiān)測。
SENTECH SILAYO由先進的硬件和SENTECH SIA軟件控制，具有客戶端-服務(wù)器架構(gòu)。一個經(jīng)過充分驗證的、可靠的可編程邏輯控制器（PLC）用于所有組件的實時控制。
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