簡要描述:產品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途:用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
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Product Category詳細介紹
1.產品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設備用途:
用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
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