1. 產(chǎn)品概述：

主要由蒸發(fā)真空室、e 型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組成，具備自動(dòng)控制軟件系統(tǒng)。

2. 設(shè)備用途/原理：

沈陽(yáng)科儀 DZS500 系統(tǒng)用途廣泛。電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可以較準(zhǔn)確地控制，可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。在科研領(lǐng)域，它常用于材料研究和新型器件的開(kāi)發(fā)；在工業(yè)生產(chǎn)中，可用于大規(guī)模制造高質(zhì)量的薄膜產(chǎn)品。例如，在制造液晶顯示器的導(dǎo)電薄膜時(shí)，能夠保證薄膜的導(dǎo)電性和均勻性，提高產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

3. 特色參數(shù)：

o 真空室結(jié)構(gòu)：采用 U 形前開(kāi)門(mén)。

o 真空室尺寸：500x500x600mm。

o 極限真空度：≤6.67e-5Pa。

o 沉積源：4 個(gè) 11cc 坩堝。

o 樣品尺寸與溫度：可放置 φ4 英寸的 1 片樣品，最高溫度可達(dá) 800℃。

o 占地面積：約 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

o 電控描述：全自動(dòng)。

o 工藝：片內(nèi)膜厚均勻性≤±3%。

o 特色參數(shù)：樣品可自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)。

4. 設(shè)備特點(diǎn)

沈陽(yáng)科儀 DZS500 系統(tǒng)的真空室具有一些顯著特點(diǎn)。其極限真空度表現(xiàn)出色，通常能夠達(dá)到≤6.67×10?? Pa（經(jīng)烘烤除氣后）。停泵關(guān)機(jī) 12 小時(shí)后，蒸發(fā)室真空度≤5Pa，這表明其真空保持能力較強(qiáng)。真空室的結(jié)構(gòu)通常為 U 形前開(kāi)門(mén)，尺寸一般為 500×500×600mm。這種設(shè)計(jì)不僅方便操作，還有利于維持真空環(huán)境的穩(wěn)定性。在實(shí)際應(yīng)用中，良好的真空室特點(diǎn)能夠?yàn)楸∧こ练e提供高質(zhì)量的真空條件，減少雜質(zhì)和氣體對(duì)薄膜質(zhì)量的影響。比如在制備高精度光學(xué)薄膜時(shí)，穩(wěn)定的真空環(huán)境能夠確保薄膜的均勻性和純度。