當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 5 刻蝕設(shè)備 > SENTECH ALAL實(shí)時監(jiān)控器
簡要描述:SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗(yàn)證的光學(xué)診斷工具,可實(shí)現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性(生長速率、厚度、折射率以及蝕刻速率),在短時間內(nèi)開發(fā)新工藝,以及實(shí)時研究 ALD 和 ALE 周期期間的反應(yīng)機(jī)理。
產(chǎn)品分類
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1. 產(chǎn)品概述
SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗(yàn)證的光學(xué)診斷工具,可實(shí)現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性(生長速率、厚度、折射率以及蝕刻速率),在短時間內(nèi)開發(fā)新工藝,以及實(shí)時研究 ALD 和 ALE 周期期間的反應(yīng)機(jī)理。
2. 主要功能與優(yōu)勢
高效的工藝開發(fā)和優(yōu)化
使用單原子層沉積 (ALD) 或原子層蝕刻 (ALE) 循環(huán)可以快速輕松地開發(fā)和優(yōu)化原子層工藝。SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)測器以 40 ms 的超高時間分辨率顯示吸附和解吸。節(jié)省了工藝、基材、驅(qū)體和氣體的開發(fā)時間。
保存驅(qū)體
使用 SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)控器進(jìn)行優(yōu)化后,ALD 處理變得更加高效。節(jié)省了驅(qū)體和處理時間。
驅(qū)體制品控制
當(dāng)驅(qū)體供應(yīng)耗盡時,SENTECH AL實(shí)時監(jiān)測器檢測到的每個周期的生長變化會立即顯示出來。
靈活性和模塊化
創(chuàng)新的 SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)測器為快速高效的工藝開發(fā)和優(yōu)化而設(shè)計,可使用 SENTECH PEALD 和 ALD 系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化。
一個軟件即可輕松操作 SENTECH PEALD 系統(tǒng)、SENTECH ALE 系統(tǒng)和 SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)測器。
用于光學(xué)常數(shù)的大型材料庫支持新工藝的開發(fā),并可以通過非原位表征進(jìn)行擴(kuò)展。
SENTECH AL 實(shí)時監(jiān)控器集成到 SENTECH SIA 操作軟件中,確保操作簡單。
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