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更新時(shí)間：2024-09-05
型號(hào)：PC450
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：167
產(chǎn)品概述： 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：TRP450廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：285
產(chǎn)品概述： 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：線(xiàn)列式廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：171
產(chǎn)品概述： 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：SMART廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：132
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：PVD500廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：162
產(chǎn)品概述： 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：PVD400廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：136微信掃一掃
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